ASML pierde terreno: China desafía su monopolio en litografía

El colapso de una ventaja aparentemente inquebrantable

Durante años, el monopolio ASML ha representado una de las fortalezas industriales más sólidas de Europa. La compañía neerlandesa construyó una posición prácticamente inexpugnable controlando la fabricación de máquinas litográficas de última generación, fundamentales para la producción de semiconductores modernos. Sin embargo, recientes desarrollos demuestran que ni siquiera los monopolios más consolidados permanecen inmutables cuando emergen competidores decididos a desafiar el orden establecido.

El equilibrio cambió a finales de julio cuando Reuters reveló que China había comenzado la producción industrial de máquinas DUV de inmersión desarrolladas íntegramente dentro del país. Esta noticia generó una caída inmediata del 8% en las acciones de ASML, reflejando la preocupación del mercado ante la erosión gradual de una ventaja que se consideraba casi imposible de replicar. El monopolio ASML no enfrentaba aún un peligro existencial, pero la percepción sobre su durabilidad cambió irrevocablemente.

La arquitectura del poder: cómo ASML dominó la industria

ASML no produce semiconductores; su verdadero poder reside en fabricar las máquinas que permiten proyectar patrones microscópicos sobre las obleas silíceas. Este posicionamiento estratégico dentro de la cadena de suministro la transformó en una pieza indispensable para toda la industria mundial. Los números demuestran la magnitud del dominio: en el segundo trimestre de 2026, la empresa facturó 9.300 millones de euros, obtuvo ganancias por 2.900 millones y aumentó sustancialmente sus proyecciones anuales.

La compañía se convirtió en una de las corporaciones cotizadas más valiosas de Europa, no como una empresa en declive sino como un gigante en plena expansión. Este éxito no fue accidental sino resultado de décadas dedicadas a dominar tecnologías que otros simplemente no podían replicar.

EUV versus DUV: la estratificación del monopolio ASML

Las tecnologías de litografía operan en distintos niveles según su capacidad. Los sistemas DUV utilizan luz ultravioleta profunda y siguen siendo esenciales para múltiples capas en la fabricación de chips, aunque representan una tecnología comparativamente más madura. En contraste, la tecnología EUV opera con longitudes de onda extremadamente reducidas de apenas 13,5 nanómetros, permitiendo imprimir estructuras extraordinariamente complejas necesarias para los semiconductores de última generación.

El monopolio ASML alcanza su máxima expresión en EUV, donde no existe rival comercial alguno. La compañía constituye el único proveedor mundial de máquinas EUV para producción industrial. China no puede importarlas legalmente, y ASML ha mantenido que nunca ha enviado una unidad al país. No obstante, Reuters reveló en diciembre de 2025 que Pekín había construido un prototipo EUV, aunque todavía se encuentran años de distancia de una herramienta operativa comparable a los estándares de ASML.

La brecha comercial y las licencias de exportación

Aunque el bloqueo en EUV resulta casi absoluto, la restricción no se extiende uniformemente sobre todo el catálogo del monopolio ASML. Para exportar sistemas DUV de inmersión avanzada como los modelos NXT:1970i y 1980i hacia China, la empresa requiere autorizaciones específicas del gobierno neerlandés. Este requisito también se aplica a los posteriores NXT:2000i. Sin embargo, ASML continúa vendiendo equipos DUV menos sofisticados en el mercado chino, manteniendo una presencia comercial significativa.

Esta estrategia comercial revela la importancia de China para los resultados financieros de ASML: durante 2025, los clientes chinos representaron el 29,1% de las ventas netas totales. Un mercado de esta magnitud no puede ser ignorado, independientemente de las consideraciones geopolíticas.

La respuesta china: construir en lugar de comprar

Frente a las restricciones de importación, China optó por un enfoque radicalmente diferente. Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, respaldada por capital estatal de la municipalidad de Shanghái, reunió capacidades dispersas de empresas chinas como Yuliangsheng y SMEE para iniciar la producción doméstica de máquinas DUV de inmersión. Estas primeras unidades se dirigieron hacia fabricantes de chips chinos de importancia como SMIC, Hua Hong y CXMT, consolidando una cadena de suministro alternativa completamente independiente del monopolio ASML.

Los volúmenes iniciales permanecen modestos: Capital Economics estima aproximadamente cinco entregas durante 2026, seguidas de alrededor de veinte en 2027. Estas cifras empalidecen comparadas con los 131 sistemas DUV de inmersión que ASML distribuyó durante 2025, demostrando que la competencia aún se encuentra en fases embrionarias.

Desafíos técnicos y operativos de la alternativa china

Producir máquinas representa apenas el primer paso en una trayectoria mucho más compleja. El verdadero examen comienza cuando estos equipos ingresa en ambientes de fabricación real, donde deben ejecutar miles de procesos iterativos manteniendo precisión micrométrica, velocidad y confiabilidad absolutas. Según fuentes consultadas por Reuters, las máquinas chinas aún requieren validaciones extensivas y actualmente exhiben rendimiento e índices de confiabilidad inferiores a los de ASML, factores absolutamente críticos para operaciones de volumen elevado.

La escala también ilustra la envergadura del desafío pendiente. Frente a las unidades iniciales previstas en China, ASML mantiene cadenas de producción altamente optimizadas capaces de entregar decenas de máquinas mensualmente. Transformar un esfuerzo inicial en una alternativa industrial verdaderamente competitiva requiere superar obstáculos técnicos sustanciales y resolver problemas de calidad que tomarán años.

El movimiento siguiente: ASML eleva la apuesta tecnológica

Mientras China trabaja cerrando la brecha en tecnología DUV, ASML ejecuta su estrategia de innovación continua moviendo la frontera tecnológica aún más adelante. Su próxima generación, denominada High-NA EUV, promete resolución y contraste significativamente superiores mediante sistemas como el EXE:5200B, diseñados para imprimir estructuras aún más complejas. Simultáneamente, ASML planificó incrementar aproximadamente un 30% para 2027 su capacidad productiva tanto en Low-NA EUV como en DUV de inmersión, fortaleciendo su capacidad para servir demanda creciente.

Esta estrategia dual de innovación y expansión productiva significa que perseguir a ASML implica perseguir un objetivo que continuamente se redefine. China debe competir no solamente con la tecnología actual de ASML sino también anticipar y alcanzar sus próximas generaciones, un desafío exponencialmente más difícil.

Perspectivas a largo plazo: el fin de la dependencia

Hoy ASML conserva una ventaja tecnológica monumental, particularmente en EUV donde los prototipos chinos permanecen distantes años de convertirse en herramientas comercialmente viables. No obstante, la transformación fundamental ya está ocurriendo en otro plano. China trascendió la posición pasiva de simplemente adquirir lo disponible y tolerar restricciones: ahora construye activamente alternativas internas para reducir su dependencia tecnológica.

Este cambio estratégico puede requerir años o décadas para materializarse en una amenaza equiparable. Sin embargo, lo que antes parecía casi axiomático—que esa dependencia sería permanente y estructural—ahora aparece como temporal. El monopolio ASML mantiene su solidez presente, pero su carácter indefinido ha quedado cuestionado permanentemente. En la competencia geopolítica y tecnológica de alto nivel, reconocer que algo es posible representa frecuentemente el primer paso para hacerlo realidad.